技術(shù)編號(hào):3245466
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的清潔裝置,更具體地,涉及一種用 于化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的清潔裝置,該清潔裝置能夠清除在執(zhí)行化學(xué)機(jī)械拋光 操作的拋光設(shè)備的拋光墊中產(chǎn)生的包括泥漿顆粒的雜質(zhì),從而防止晶片刮 傷。背景技術(shù)通常,通過(guò)執(zhí)行諸如沉積過(guò)程、照相過(guò)程、蝕刻過(guò)程和離子注入過(guò)程的 各種加工過(guò)程來(lái)制造半導(dǎo)體元件。例如,硅片在加工過(guò)程中具有各種加工層,可以重復(fù)執(zhí)行選擇性地清除和仿造(patterning) —些這種加工層,然后在預(yù)成型加工層的表面上沉積另 外的加工層的...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。