技術(shù)編號(hào)：3244459
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種柱狀磁控濺射陰極制備AR膜^用生產(chǎn)線。技術(shù)背景目前為止磁控濺射法是一種可以做到大面積均勻沉積高質(zhì)量膜層的方 法。而且也是最容易推廣和工業(yè)化的一種方法。因此，這種方法在制備高檔 次、高質(zhì)量的減反射(AR〗膜產(chǎn)品上也應(yīng)用相當(dāng)廣泛，而且在此基礎(chǔ)上對產(chǎn) 品的產(chǎn)能和質(zhì)量以及工藝的可調(diào)性方面提出了更高的要求。鑒于此，國內(nèi)也 出現(xiàn)了很多專門制備減反射(AR)膜玻璃的磁控濺射連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線。早期 的生產(chǎn)線采用了臥式結(jié)構(gòu)，通常的方式是鍍膜基片在上方，磁控濺射耙...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。