技術(shù)編號(hào)：3208154
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及生產(chǎn)穩(wěn)定裝置和生產(chǎn)方法，與現(xiàn)有技術(shù)相比，其可更容易地生產(chǎn)含有兩種或多種金屬組分的氮化物、碳化物、硼化物、氧化物或硅化物，例如TiAlN，和涉及涂有通過該方法形成的膜的工具。背景技術(shù) PVD(物理氣相沉積)方法被稱為涂布產(chǎn)品表面的方法，使之得到耐磨性、耐氧化性、耐腐蝕性和其它一些功能。離子電鍍方法(其用作PVD方法之一并結(jié)合真空沉積方法的一部分和濺射工藝)是一種表面處理方法，用于形成金屬化合物如金屬碳化物、金屬氮化物和金屬氧化物或其化合物的涂層。...
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