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技術(shù)編號：3163632

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本發(fā)明涉及靶材制造領(lǐng)域，尤其涉及。背景技術(shù)物理氣相沉積(Physical V即or D印osition ;PVD)是半導體芯片和TFT-LCD生產(chǎn) 過程中最關(guān)鍵的工藝之一，PVD用濺射金屬濺射靶材是半導體芯片生產(chǎn)、薄膜晶體管液晶顯 示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display ;TFT-LCD)設備和薄膜太陽能電池 等制造加工過程中最重要的原材料之一，其中用量最大的是超高純鋁和超高純鋁合金濺射 靶材。 為了滿...
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