技術(shù)編號：3084032
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種，包括用于吸附膜材的真空平臺、激光器和振鏡，所述激光器和振鏡之間設有擴束鏡，所述真空平臺的上方設有CCD圖像傳感器，所述真空平臺的一側(cè)設有吹氣裝置，另一側(cè)設有集塵裝置。本發(fā)明提供的，采用高頻率的短脈沖激光器作為激光源進行激光蝕刻，通過小幅面振鏡蝕刻來完成膜材蝕刻，產(chǎn)生的粉塵經(jīng)過吹氣系統(tǒng)和集塵系統(tǒng)集塵，從而可以避免現(xiàn)有技術(shù)成本高，效率低、加工局限大以及污染大等缺陷，簡化刻蝕過程并提高精度。專利說明[0001]本發(fā)明涉及一種導電薄膜的刻蝕裝置及...
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