技術編號：2979430
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本公開涉及用于樣品成像的，例如使用帶電粒子的樣品成像。 背景技術樣品可暴露于帶電粒子以用于多種應用，包括樣品成像。在一些實施例中，樣品的成像包括視場的光柵掃描(raster scanning)，以獲得視場中包含的樣品部分的圖像。當用戶需要觀看樣品的不同部分時，系統(tǒng)修改視場并且進行新視場中包含的新區(qū)的光柵掃描。發(fā)明內容本發(fā)明公開了用于掃描樣品并且獲得樣品表面圖像的方法。該方法涉及獲得并結合樣品的慢掃描圖像，并且將圖像提供給用戶。在一些實施例中，用戶可搖攝和縮...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。