技術(shù)編號：2968614
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，特別是涉及設(shè)置在半導(dǎo)體制造裝置中的壓力控制機(jī)構(gòu)的。近來，伴隨著半導(dǎo)體裝置的超高集成化及超多層化的傾向，通過對材料不同的多個膜進(jìn)行連續(xù)處理進(jìn)行蝕刻。在該處理當(dāng)中，有時在處理過程中根據(jù)膜的材料增減處理室內(nèi)的壓力。進(jìn)而，根據(jù)膜的材料，要求在幾個Pa左右的低壓下進(jìn)行處理。此外，將壓力傳感器設(shè)定能檢測的壓力檢測范圍，一般地，越是能夠以高精度檢測低壓力，其壓力檢測范圍越窄。因此，為了監(jiān)視各個膜的處理壓力的檢測及處理室內(nèi)的整個壓力變化，有時需要適當(dāng)?shù)厍袚Q多個...
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