技術(shù)編號(hào):2966391
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種電子發(fā)射顯示裝置,并尤其是,涉及一種能夠?qū)﹄娮舆M(jìn)行聚焦的電子發(fā)射顯示裝置,該電子從形成在厚的絕緣層上的具有一小柵極孔的電子發(fā)射區(qū)域發(fā)射。背景技術(shù) 通常,電子發(fā)射顯示裝置可以分為兩種類型。第一種類型采用熱(或熱離子的)陰極作為電子發(fā)射源,而第二種類型采用冷陰極作為電子發(fā)射源。另外,在第二種類型的電子發(fā)射顯示裝置中,有場(chǎng)發(fā)射陣列(FEA)型、表面穿高發(fā)射(SCE)型、金屬-絕緣體-金屬(MIM)型、金屬-絕緣體-半導(dǎo)體(MIS)型和發(fā)射電子表面發(fā)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。