技術(shù)編號：2959170
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種通過將離子束照射到靶上而實現(xiàn)離子注入的離子注入裝置，以及涉及一種構(gòu)成該離子注入裝置、并包含用于進行離子束掃描和偏轉(zhuǎn)的離子束偏轉(zhuǎn)器的離子束裝置。具體地，本發(fā)明涉及一種能夠縮短離子束流線長度的離子束裝置。背景技術(shù) 在離子束裝置(此后以離子注入裝置為例)中，例如離子注入裝置中，迄今已實現(xiàn)離子束的平行，以使靶平面(例如，半導(dǎo)體襯底)內(nèi)的離子束的入射角均勻。為了防止不希望的能量的離子(稱作“能量污染物”或“能量致污物”)隨所需能量注入靶內(nèi)(這種注入被稱...
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