技術(shù)編號：2950409
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于一種圖案化工藝(patterning process)，且特別是關(guān)于一種可節(jié)省材料的圖案化膜層及等離子顯示器(Plasma Display Panel)之障壁(rib)的形成方法。背景技術(shù) 目前較為普遍的圖案化工藝包括網(wǎng)版印刷工藝以及微影/蝕刻工藝。圖1A至圖1D為一種公知的圖案化工藝的流程剖面圖。請參照圖1A，其先在材料層100上全面性地形成一層膜層102。接著請參照圖1B，利用微影工藝在膜層102上形成圖案化光阻層104。然后，請參照圖1C...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。