技術(shù)編號(hào)：2944705
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本文公開的主旨涉及X射線管，并且具體地涉及X射線管內(nèi)的電子束操縱。背景技術(shù)在非侵入性成像系統(tǒng)中，X射線管作為X射線輻射的源在熒光透視、投影X射線、 層析攝影合成和計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)系統(tǒng)中使用。典型地，該X射線管包括陰極和靶。在該陰極內(nèi)的熱離子絲極響應(yīng)于由施加的電流產(chǎn)生的熱朝靶發(fā)射電子流，最終電子撞擊靶。X 射線管內(nèi)的操縱磁體組件可當(dāng)電子流擊中靶時(shí)控制電子流的大小和位點(diǎn)。一旦用電子流轟擊靶，該靶產(chǎn)生X射線輻射。X射線輻射穿越感興趣對(duì)象，例如人類患者或行李...
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