技術(shù)編號：2944610
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本文公開的發(fā)明主題涉及X射線管，以及具體來說涉及用于X射線管內(nèi)的X射線二次放電的衰減特征。背景技術(shù)在無創(chuàng)成像系統(tǒng)中，X射線管作為X射線輻射源在熒光、投射X射線、斷層攝影合成和計算機斷層攝影(CT)系統(tǒng)中使用。通常，X射線管包括陰極和靶。響應施加的電流所產(chǎn)生的熱，陰極內(nèi)的熱離子絲極向靶發(fā)射電子流，其中這些電子最終撞擊靶。一旦以電子流轟擊靶，則靶產(chǎn)生在焦點上的和偏離焦點的(off focal)X射線輻射。在焦點上的X射線輻射穿過感興趣的受檢者(例如，人類患者)...
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