技術(shù)編號：2940646
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請要求于2001年7月25日提交的韓國專利申請第P2001-44873號的優(yōu)先權(quán)及2002年4月29日提交的韓國專利申請第P2002-23428號的優(yōu)先權(quán)，該申請一并結(jié)合于此作為參考。根據(jù)日本公開專利第60-51775號，如果電子束電流增加，則通常的電子束光點變大。因此，為了獲得精細的圖像，如可能的話，電子束電流應(yīng)該在較小的范圍內(nèi)。然而因為要求高電流的陰極射線管其電流變化較大，因此采用了一種在雙(bi)電位主透鏡結(jié)構(gòu)上預(yù)聚焦區(qū)域有所改進的單-雙(uni...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。