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等離子體發(fā)生裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2937895

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本實用新型涉及一種等離子體的發(fā)生裝置,具體講是用于有機材料表面處理的穩(wěn)定均勻的低溫等離子體發(fā)生裝置。背景技術(shù)低溫等離子體發(fā)生技術(shù)很多,低氣壓條件下,有直流輝光,低頻交流輝光,高頻脈沖介質(zhì)阻擋放電、射頻激勵、微波激勵等。在大氣壓條件下,可實現(xiàn)高頻脈沖介質(zhì)阻擋放電,射頻等離子體射流等等。低氣壓條件需要真空技術(shù),適合于處理大體積工件,間歇工作模式。大氣壓等離子體適合于連續(xù)處理薄膜、纖維類的材料。大氣壓射頻等離子體射流可以處理大體積工件,但是由于射流束小,處理面積...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。

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