技術(shù)編號(hào)：2934296
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總的涉及離子注入系統(tǒng)，尤其涉及控制離子注入器中的離子束。背景技術(shù)離子注入系統(tǒng)是用來(lái)在集成電路制造中用雜質(zhì)來(lái)?yè)诫s半導(dǎo)體襯底的 機(jī)構(gòu)。在這樣的系統(tǒng)中，摻雜材料被離子化并且從其中產(chǎn)生離子束。該 離子束系被引導(dǎo)至半導(dǎo)體晶片或工件的表面，以便將離子注入該晶片之 中。所述束中的離子穿透晶片的表面并且會(huì)在其中形成具有所需要的導(dǎo) 電性的區(qū)域，例如在晶體管制造中。典型離子注入器包含用以產(chǎn)生該 離子束的離子源；包含質(zhì)量分析設(shè)備的束線(xiàn)組件，用以引導(dǎo)和/或過(guò)濾(例 如質(zhì)量分...
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