技術(shù)編號(hào)：2930733
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于對(duì)離子源固體樣品進(jìn)行加熱的離子源蒸發(fā)器，所述樣品提供給例如離子注入裝置的離子束照射裝置。具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及的離子源蒸發(fā)器可以防止噴嘴堵塞，所述噴嘴用于將蒸發(fā)器的蒸汽樣品送到一個(gè)弧腔中。背景技術(shù) 迄今為止，通常采用照射方法對(duì)表面進(jìn)行改性，并將雜質(zhì)注入到硅片中或玻璃基質(zhì)中。通過(guò)對(duì)氣體樣品或固體樣品進(jìn)行電離獲得這些離子。在常溫下，像磷，銻或鋁的金屬為固體。為了從這些固體中得到粒子，需要利用加熱方法使固體樣品蒸發(fā)，然后在蒸發(fā)狀態(tài)送到一個(gè)弧腔中。...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。