技術(shù)編號：2926665
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明一般地涉及等離子噴涂，并且特別涉及用于改善的等離子噴涂涂層材料的等離子噴涂方法和設(shè)備。背景技術(shù)等離子噴涂是一種通過等離子噴涂裝置向靶材表面上噴涂涂層材料來提供所需涂層的方法。在傳統(tǒng)的等離子噴涂裝置中，等離子體流離開陽極后，在陰極附近氣體的誘導(dǎo)漩渦將任何注入的涂層材料離心式射離等離子體流，降低施加在靶材表面的涂層材料的量。在一些等離子噴涂裝置中，離開陽極的等離子體流可以具有大于90°的粒子總體分布角(total particle pattern ang...
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