技術(shù)編號(hào)：2925646
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及利用場(chǎng)致發(fā)射來(lái)發(fā)射電子的場(chǎng)致發(fā)射電極、其制造方法和電子裝置。背景技術(shù) 場(chǎng)致發(fā)射冷陰極可以通過(guò)向它們的發(fā)射極施加電場(chǎng)而向真空室發(fā)射電子，并且其已經(jīng)作為代替熱陰極的電子發(fā)射元件而受到關(guān)注。為了得到較小閾值的場(chǎng)強(qiáng)(產(chǎn)生發(fā)射電流為1mA/cm2的場(chǎng)強(qiáng))以及更穩(wěn)定、均勻的發(fā)射電流，已經(jīng)進(jìn)行了各種各樣的研究。用于改善場(chǎng)致發(fā)射冷陰極的電子發(fā)射特性的技術(shù)大致具有兩種趨勢(shì)。一種是研究電子發(fā)射材料的結(jié)構(gòu)以獲得更高電場(chǎng)濃度的結(jié)構(gòu)。通過(guò)使發(fā)射電子的電子發(fā)射材料的尖端變尖...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。