技術(shù)編號：2925590
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于安裝在等離子設(shè)備中的細(xì)長的氣體分配系統(tǒng)。背景技術(shù) 利用真空相關(guān)噴涂工藝對大面積基片進(jìn)行處理的技術(shù)顯得極為重要。例如，在大型真空設(shè)備中聯(lián)機(jī)處理大面積窗格玻璃正變得越來越重要，因?yàn)樗菇ㄖＡ苎b修成具有譬如低輻射率或防污的涂層。在這些噴涂設(shè)備中，基片被輸送經(jīng)過垂直于輸送方向定位的細(xì)長噴涂源。該噴涂源優(yōu)選是旋轉(zhuǎn)噴涂靶極(target)，在其表面保持有被磁場約束的等離子體軌道(racetrack)。等離子體是通過惰性氣體、尤其是氬的電離作用產(chǎn)生...
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