技術(shù)編號(hào)：2919708
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景技術(shù) 光刻系統(tǒng)包括離子、激光、EUV和電子束系統(tǒng)，所有這些都要求處理和傳送圖形到某種類型的寫裝置的裝置。實(shí)現(xiàn)這個(gè)裝置的十分公知的方式是使用掩模，將這個(gè)掩模投影到襯底上，隨著分辨率變得越來(lái)越小，這些掩模也變得越來(lái)越難以制造。此外，投影這些掩模的(光學(xué))裝置也變得非常復(fù)雜?？朔@個(gè)問(wèn)題的一種方法是使用無(wú)掩模光刻法。無(wú)掩模光刻系統(tǒng)可以分為兩種類型。在第一類中，圖形數(shù)據(jù)被朝單個(gè)輻射源或多個(gè)輻射源發(fā)送。通過(guò)在適當(dāng)?shù)臅r(shí)候調(diào)節(jié)輻射源的強(qiáng)度，在襯底上產(chǎn)生圖形，該襯底通...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。