技術(shù)編號：2910750
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種材料的陰極濺射的，特別是在一個真空處理設(shè)備中。背景技術(shù) 對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，與一個陽極結(jié)合，利用陰極來從一個靶濺射一種材料是已知的。在一個傳統(tǒng)的陰極濺射設(shè)備中，濺射時，將負(fù)電壓施加在作為陰極的靶上，而正電壓源與一個分開的陽極連接，陽極例如在一個真空處理室中。現(xiàn)有技術(shù)可以作為非限定的示例示于專利FR2492163中，該專利涉及一種陰極布置，用于在一個陰極濺射設(shè)備中從一個靶濺射材料。在該專利中，靶包括一個支撐板，支撐板具有使冷卻流體流動的裝置...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。