技術(shù)編號：2905215
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于通過生成的離子產(chǎn)生等離子體單面或者兩面加工電浮置基片的系統(tǒng)和方法，更具體而言，涉及用于基片表面的可控處理的加工系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)工業(yè)等離子源用于表面上的可控淀積和刻蝕表面，被廣泛用于工業(yè)應(yīng)用中，尤其是半導(dǎo)體、光和磁的薄膜加工。由這些源形成的等離子體產(chǎn)生反應(yīng)的中性和離子形式，它們可以和表面發(fā)生化學(xué)和/或物理作用，從而淀積或者除去材料。在許多方法中，使用來自等離子源中的高能離子可使淀積的材料具有極好的性質(zhì)或者使表面刻蝕能在不然將無效的條件下進行...
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