技術(shù)編號：2899842
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于等離子體加工設(shè)備領(lǐng)域，涉及一種法拉第屏蔽以及含有該法拉第屏蔽的等離子體加工設(shè)備。背景技術(shù)磁控濺射技術(shù)是將靶材表面引入磁場，利用磁場與電子交互作用，使電子在靶材表面附近螺旋狀運行，以撞擊氣體分子電離而產(chǎn)生離子，產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶材表面而濺射出靶材。同時，磁場可以約束帶電粒子并增加等離子體的密度，從而可以提高濺射速率。因此，磁控濺射技術(shù)被廣泛用于薄膜的沉積和蝕刻工藝。圖1為采用磁控濺射技術(shù)的等離子體加工設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。請參閱圖1，等離子體...
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