技術編號：2899818
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及在真空容器內利用等離子體對基板進行處理的等離子處理裝置。 背景技術作為半導體制造工藝之一的、用于在真空氣氛下利用反應氣體在基板上形成薄 膜的裝置，公知有在載置臺上載置多張半導體晶圓等基板，使基板相對于反應氣體供給部 件一邊相對地公轉一邊進行成膜處理的成膜裝置。例如，在美國專利公報7153542號、日 本專利3144664號公報和美國專利公報6634314號中記載有這種所謂的小批量方式的成 膜裝置，這樣的成膜裝置例如從反應氣體供給部件對基板供給多種...
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