技術編號：2895480
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于對基板實施蝕刻處理等的等離子處理的等離子處理裝置和等離 子處理方法。背景技術以往以來，例如在半導體裝置的制造領域等中，使用用于對半導體晶圓、液晶顯示 裝置的玻璃基板等實施蝕刻處理、成膜處理等規(guī)定等離子處理的等離子處理裝置。作為上述等離子處理裝置之一，公知有如下的電容耦合型的等離子處理裝置，在 該處理裝置中，在處理室內(nèi)設有平行平板型的對置電極，對上述對置電極之間施加高頻電 力而產(chǎn)生處理氣體的等離子體。此外，在上述的等離子處理裝置中，公知有如下的...
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