技術(shù)編號：2894465
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及離子注入系統(tǒng)，且更特別是關(guān)于離子注入系統(tǒng)的偏折光學(xué)組件。 背景技術(shù)離子注入器因為允許相對于注入至工件的摻雜劑的量或濃度，以及相對于工件內(nèi)的摻雜劑的置放的精密度而為有利。特別是，離子注入器允許注入離子的劑量與能量相對于既定的應(yīng)用而改變。離子劑量控制注入離子的濃度，其中，高電流的注入器典型為用于高劑量注入，以及中電流的注入器用于較低劑量注入。使用離子能量以控制離子注入至半導(dǎo)體工件的接面深度或深度?？梢岳斫獾氖且阎碾娮赢a(chǎn)業(yè)的趨勢為將電子裝置的尺度縮小...
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