技術(shù)編號：2894333
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明一般涉及如例如在真空處理或者加工系統(tǒng)中使用的、適用于移除在處理腔 室內(nèi)的殘余物或者多余沉積物的方法和設(shè)備。更加具體地，本發(fā)明涉及一種用于利用硅和 /或含硅組分清洗處理腔室的內(nèi)部的方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件的工業(yè)制造中，用于沉積具有特定性質(zhì)的層的系統(tǒng)得到廣泛的使 用。這些是在大氣或者亞大氣條件下沉積的半導(dǎo)電的、金屬的、電介質(zhì)的或者其它的層。除 了別的以外，CVD (化學汽相沉積)、PECVD (等離子體增強CVD)、PVD (物理汽相沉積)以及 APC...
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