技術(shù)編號：2892088
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及半導(dǎo)體集成電路的制造，尤其涉及一種應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的等 離子反應(yīng)室(Chamber)的內(nèi)襯及應(yīng)用該內(nèi)襯的等離子裝置。背景技術(shù)等離子裝置廣泛地應(yīng)用于集成電路(IC)或MEMS器件的制造工藝中。其中一個顯 著的用途就是電感耦合等離子體(ICP)裝置。等離子體中含有大量的電子、離子、激發(fā)態(tài)的 原子、分子和自由基等活性粒子，這些活性粒子和襯底相互作用使材料表面發(fā)生各種物理 和化學(xué)反應(yīng)，從而使材料表面性能獲得變化。在基于半導(dǎo)體裝置的制造中，可以將多層...
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