技術(shù)編號(hào)：2883267
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型提出一種激光光源和投影裝置，包括激光二極管陣列；波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤的盤面所在的平面平行于第一方向；波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤包括垂直于盤面的環(huán)形側(cè)壁，該環(huán)形側(cè)壁上包括波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層。還包括反射裝置，用于將沿第一方向發(fā)射的激光反射并匯聚于所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤環(huán)形側(cè)壁上的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層；還包括驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)。在該激光光源中，將波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層置于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤的環(huán)形側(cè)壁上，這使得波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換轉(zhuǎn)盤的盤面可以平行于激光的發(fā)射方向而不是像背景技術(shù)中的垂直于激光的發(fā)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。