技術(shù)編號:2870426
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種用于離子束刻蝕機(jī)的大口徑平行束離子源。所述大口徑平行束離子源主要由安裝法蘭、支桿、放電室、磁場部件、陽極、放電燈絲、中和燈絲、內(nèi)罩以及絕緣件組成。磁場部件安裝在放電室底部,陽極及放電燈絲安裝在放電室內(nèi),柵網(wǎng)部件安裝在放電室出口。本發(fā)明離子源所用磁場部件磁場區(qū)域大于放電室內(nèi)徑,放電燈絲及陽極高度可調(diào),可根據(jù)實(shí)際工藝實(shí)驗(yàn)獲取最佳位置,從而提高離子源出口離子束的性能。專利說明一種用于離子束刻蝕機(jī)的大口徑平行束離子源 [0001]本發(fā)明涉及一...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。