技術(shù)編號：2867014
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及等離子體加工，尤其涉及一種用于等離子體加工設(shè)備的電極 板和反應腔室。背景技術(shù)在半導體制造工藝中，等離子體加工技術(shù)得到了極為廣泛的應用。該技術(shù)是在一 定條件下激發(fā)工藝氣體生成等離子體，利用等離子體與襯底(例如硅基片)發(fā)生復雜的物 理、化學反應而在襯底上完成各種加工，如等離子體刻蝕、等離子體薄膜沉積等，獲得需要 的半導體結(jié)構(gòu)。圖1示出了一種常用的等離子體加工設(shè)備的反應腔室結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示， 等離子體加工設(shè)備的反應腔室通常包括腔體1，一般由鋁、鋁...
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