技術(shù)編號(hào)：2865005
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種真空遠(yuǎn)區(qū)等離子體處理裝置，包括反應(yīng)腔、電極組件、等離子發(fā)生器和負(fù)壓設(shè)備，反應(yīng)腔包括放電腔和用于材料表面活化反應(yīng)的處理腔，放電腔設(shè)置于處理腔上方并與處理腔連通，放電腔頂部設(shè)置有氣體入口，處理腔底部設(shè)置有氣體出口，電極組件設(shè)置于放電腔外表面，等離子發(fā)生器與電極組件電連接，負(fù)壓設(shè)備與氣體出口連接。本實(shí)用新型中負(fù)壓設(shè)備將放電腔和處理腔中抽真空，等離子發(fā)生器驅(qū)動(dòng)電極組件生成電場(chǎng)，反應(yīng)氣體從氣體入口進(jìn)入經(jīng)過放電腔電離后進(jìn)入處理腔中對(duì)材料表面進(jìn)行活化反...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。