技術(shù)編號(hào):2862952
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種射頻等離子體反應(yīng)室,廣泛應(yīng)用于材料表面改性及表面處理等領(lǐng)域。這種射頻等離子體反應(yīng)室包括設(shè)置在真空腔室中的上基片臺(tái)和下基片臺(tái),上基片臺(tái)通過(guò)上支撐筒固定在密封蓋上的上基片臺(tái)固定裝置上,上基片臺(tái)采用容性耦合基片臺(tái)或感性耦合基片臺(tái);下基片臺(tái)通過(guò)下基片臺(tái)軸向位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)固定在底板上,調(diào)整調(diào)節(jié)螺母時(shí),移動(dòng)法蘭在導(dǎo)向桿上滑動(dòng),使波紋管變形,位于波紋管內(nèi)的下支撐筒移動(dòng),改變與下支撐筒連接在一起的下基片臺(tái)與上基片臺(tái)之間的距離。該等離子體反應(yīng)器的優(yōu)點(diǎn)在于能夠根據(jù)不同的工藝...
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