技術(shù)編號：2862549
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種。 背景技術(shù)在許多制造領(lǐng)域中都需要對離子束或電子束進(jìn)行傳輸控制。例如，離子注入方法 用來把通常稱之為雜質(zhì)的原子或分子引入靶標(biāo)基片，從而改變基片材料的性能，如金屬軸 承通過離子注入引入其他材料，可以提高其耐磨性，延長使用壽命；離子鍍膜方法是把離子 材料沉淀在工件表面，從而改變工件表面的物理和化學(xué)性能，如光學(xué)器件或顯示設(shè)備的制 造，就需要采用厚度可控、表面性能預(yù)定的薄膜沉積的工藝，以提高其光學(xué)性能。尤其令人感興趣的是，用...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。