技術(shù)編號(hào):2861567
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及具有多次反射真空紫外光電離源的質(zhì)譜分析儀。包括光電離腔體、差分腔體和質(zhì)譜腔體;光電離腔體內(nèi)設(shè)有由真空紫外光源、推斥電極和聚焦電極組成的真空紫外光電離源;差分腔體內(nèi)設(shè)有離子光學(xué)系統(tǒng),質(zhì)譜腔體內(nèi)設(shè)有質(zhì)量分析器;推斥電極和聚焦電極相對(duì)應(yīng)的側(cè)面為圓錐面或圓弧面,推斥電極的圓錐面或圓弧面上和聚焦電極的圓錐面或圓弧面上分別鍍有反射層,反射層材料為金或鋁或銥。使來(lái)自于真空紫外光源的出射光可在推斥電極和聚焦電極之間多次反射,增加了待測(cè)物的電離幾率,從而使電離...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。