技術編號：2856621
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種雙電離的離子源，該離子源由電子轟擊電離（EI源）和真空紫外燈電離（PI源）兩種電離方式組成，其結構包括進樣管，推斥極、電離室、燈絲、紫外燈、引出極、聚焦極、出射極、推斥板和接地柵板。本發(fā)明拓寬了單一離子源分析多形態(tài)樣品時的適用性，同時提高了碎片離子的質(zhì)量選擇，可有效的分析離子組成和樣品結構。專利說明—種雙電離的離子源[0001]本發(fā)明屬于離子源領域，具體涉及一種雙電離的離子源。背景技術[0002]質(zhì)譜技術是一種測量離子荷質(zhì)比的分析方法，其原理是使試樣中...
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