技術(shù)編號(hào):2854423
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。該等離子體處理裝置包括擋環(huán),所述擋環(huán)將真空室的內(nèi)部空間分成等離子體空間和排氣空間。等離子體通過利用能量源激發(fā)工藝氣體而被生成在等離子體空間中。然后,所述工藝氣體通過圍繞襯底支撐件的外周的所述等離子體擋環(huán)被排出等離子體空間。所述等離子體擋環(huán)包括內(nèi)支撐環(huán)、外支撐環(huán)、以及在內(nèi)支撐環(huán)和外支撐環(huán)之間延伸的豎直間隔周向地重疊的矩形葉片。每一個(gè)葉片具有主表面,用于阻擋從所述等離子體空間到所述排氣空間的視線,其中所述葉片的所述主表面被構(gòu)造來在諸如等離子體蝕刻副...
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