技術(shù)編號：2852991
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種場發(fā)射平面光源，包括陽極、隔離體、聚焦極、柵極和陰極，陽極與陰極通過隔離體隔開相對設(shè)置，三者形成密閉收容空間，聚焦極和柵極收容在密閉收容空間內(nèi)，隔離體為一體化結(jié)構(gòu)，包括隔離主體和側(cè)壁支撐體，隔離主體開設(shè)有漏斗狀通孔，隔離主體的大開口端與發(fā)光層相接，小開口端與側(cè)壁支撐體相接；聚焦極和柵極以預(yù)定距離設(shè)置在側(cè)壁支撐體的內(nèi)壁上，柵極設(shè)置在陰極一側(cè)；柵極開設(shè)有柵極通孔，聚焦極開設(shè)有聚焦通孔；陰極包括陰極基板和發(fā)射體，陰極基板中部設(shè)有弧形凸起，發(fā)射體設(shè)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。