技術(shù)編號(hào)：2851963
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。帶電粒子束聚焦設(shè)備（200）包括帶電粒子束發(fā)生器（202），所述帶電粒子束發(fā)生器（202）被配置以同時(shí)將至少一個(gè)非像散帶電粒子束和至少一個(gè)像散帶電粒子束投射到樣品表面的位置（217）上，從而使得釋放電子從所述位置發(fā)射出。所述設(shè)備還包括成像檢測(cè)器（31），所述成像檢測(cè)器（31）被配置以從所述位置接收釋放電子且根據(jù)釋放電子形成所述位置的圖像。處理器（32）分析由至少一個(gè)像散帶電粒子束產(chǎn)生的圖像，且響應(yīng)于所述圖像以調(diào)整至少一個(gè)非像散帶電粒子束的焦點(diǎn)。專利說(shuō)明聚焦...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。