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一種用于等離子體處理腔室的約束環(huán)及腔室清潔方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2851424

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本發(fā)明提供了,所述約束環(huán)為可移動(dòng)的,以在所述基座和所述約束環(huán)之間能夠產(chǎn)生一開(kāi)口,使得清潔用的等離子體能夠通過(guò)該開(kāi)口進(jìn)入所述排氣區(qū)域。本發(fā)明能夠有效清潔約束環(huán)下面產(chǎn)生的聚合物污染。專(zhuān)利說(shuō)明[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,尤其涉及一種用于等離子體處理腔室的約束環(huán)及腔室清潔方法。背景技術(shù)[0002]等離子體處理裝置利用真空反應(yīng)室的工作原理進(jìn)行半導(dǎo)體基片和等離子平板的基片的加工。真空反應(yīng)室的工作原理是在真空反應(yīng)室中通入含有適當(dāng)刻蝕劑或淀積源氣體的反應(yīng)氣體,然...
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