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一種等離子體處理設(shè)備及其中的溫度隔離裝置制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2850761

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本發(fā)明涉及一種等離子體處理設(shè)備及其中的溫度隔離裝置;所述等離子體處理設(shè)備設(shè)置有能夠密閉的腔室,所述腔室的側(cè)壁頂部設(shè)置有環(huán)蓋;所述腔室的頂部由介電窗構(gòu)成,所述環(huán)蓋與所述介電窗之間存在溫度差;所述溫度隔離裝置是設(shè)置在所述環(huán)蓋頂部的隔熱圈;所述隔熱圈的頂面,與所述介電窗的一部分底面相接觸,實(shí)現(xiàn)對(duì)介電窗的支撐,從而隔絕介電窗與所述環(huán)蓋之間的導(dǎo)熱接觸,以阻止熱量由所述介電窗向環(huán)蓋傳導(dǎo),實(shí)現(xiàn)減少介電窗中心位置到邊緣位置的溫度梯度的目的。本發(fā)明能夠有效提升等離子體處理設(shè)...
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