技術(shù)編號：2818462
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于光刻，特征涉及光刻對準的相干成像系統(tǒng)。 背景技術(shù)投影光刻裝置(投影光刻機)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的重要設(shè)備之一。投影光刻機可將 攜模板上的圖形通過其投影物鏡按一定比例轉(zhuǎn)移到硅片上(本文中的硅片泛指所有被曝光對 象，包括襯底、鍍膜和光刻膠等)。由于一般都要在硅片上的器件區(qū)曝多層圖形來最終形成特 定的器件，因而就需要保證不同層圖形之間精確對準，也就是我們常說的不同層圖形之間的 套刻，套刻精度是投影光刻機的三大重要指標之一，而投影光刻機的套刻功能是由對準...
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