技術編號：2818390
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明是有關于一種用于硅片曝光工藝的工件臺，且特別是有關于一種用 于硅片曝光工藝的帶邊緣曝光保護的工件臺。背景技術在硅片曝光工藝中有正膠曝光工藝和負膠曝光工藝。在負膠曝光工藝流程 中有這樣一個需求，就是要求硅片邊緣不能被曝光，要防止照明光源照射到硅 片邊緣上。本發(fā)明針對這種需求揭示了一種帶邊緣曝光保護功能的工件臺，其中的邊 緣保護功能做在工件臺的最上層，與工件臺組成一個整體，實現(xiàn)保護功能。實 現(xiàn)邊緣保護功能的機構結構簡單，定位重復定位精度高。發(fā)明內容本發(fā)明...
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