技術編號：2818023
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及透過液體使基板曝光之曝光裝置、曝光方法及組件制 造方法。背景技術在半導體組件或液晶顯示組件等組件之工序之一的光刻工序中，系使用將形成于掩模上之圖案投影曝光至感光性基板上的曝光裝置。 此曝光裝置，具有支撐掩模之掩模載臺與支撐基板之基板載臺， 一邊 使掩模載臺與基板載臺逐次移動一邊透過投影光學系統(tǒng)將掩模之圖案 投影曝光至基板。于微組件之制造中，為進行組件之高密度化，皆要 求基板上所形成之圖案的微細化。為滿足此要求，對曝光裝置進一步 期望具有更高分辨率...
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