技術(shù)編號(hào):2817337
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于半導(dǎo)體集成電路,液晶顯示器或類似產(chǎn)品的制造中光刻工藝的光學(xué)記錄器和記錄方法,尤其涉及一種適合形成具有基本上和曝光波長(zhǎng)一樣大的線寬的曝光圖形和類似物的光學(xué)記錄器和記錄方法。背景技術(shù) 在利用曝光的光學(xué)記錄器中,有一種曝光裝置通過(guò)例如透鏡投影或鏡面投影的投影光學(xué)系統(tǒng)使曝光圖形在曝光物體表面成像。然而,如果曝光圖形的線寬接近于曝光線的波長(zhǎng),線寬會(huì)由于光的衍射的限制而不能被分辯。為了解決這個(gè)問(wèn)題,提供了一種提高分辨率的方法,使用一種帶有形成在掩膜基...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。