技術(shù)編號(hào):2817276
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng),該照明系統(tǒng)具有布置為多鏡陣 列且能夠經(jīng)由至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)器傾斜的鏡、和該鏡的驅(qū)動(dòng)電子裝置,以及還涉及驅(qū)動(dòng)所述鏡 的方法。背景技術(shù)集成電路和其他微結(jié)構(gòu)部件傳統(tǒng)上通過(guò)將一些結(jié)構(gòu)層施加到合適的基底來(lái)制作, 該合適的基底例如可以是硅晶片。為了構(gòu)造所述層的目的,基底首先涂覆光致抗蝕劑,該光 致抗蝕劑對(duì)屬于特定波長(zhǎng)區(qū)域的光(例如,深紫外頻譜區(qū)域(DUV)中的光)敏感。接著,已 經(jīng)以該種方式涂覆的晶片在微光刻投射曝光設(shè)備中曝光。在...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。