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微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2817276

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本發(fā)明涉及用于微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng),該照明系統(tǒng)具有布置為多鏡陣 列且能夠經(jīng)由至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)器傾斜的鏡、和該鏡的驅(qū)動(dòng)電子裝置,以及還涉及驅(qū)動(dòng)所述鏡 的方法。背景技術(shù)集成電路和其他微結(jié)構(gòu)部件傳統(tǒng)上通過(guò)將一些結(jié)構(gòu)層施加到合適的基底來(lái)制作, 該合適的基底例如可以是硅晶片。為了構(gòu)造所述層的目的,基底首先涂覆光致抗蝕劑,該光 致抗蝕劑對(duì)屬于特定波長(zhǎng)區(qū)域的光(例如,深紫外頻譜區(qū)域(DUV)中的光)敏感。接著,已 經(jīng)以該種方式涂覆的晶片在微光刻投射曝光設(shè)備中曝光。在...
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