技術(shù)編號：2816969
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種可用于形成電學(xué)和光學(xué)元件的著色掩模方法。 背景技術(shù)許多電子元件的制造，包括平板顯示器、RFID標(biāo)簽和各種傳感應(yīng)用在內(nèi)，都依賴于 精確圖案化施加在相對較大基底上的電活性材料層。這些產(chǎn)品由若干層不同圖案化的材料 組成，其中重要的是這些層處于特定的配準(zhǔn)(registration)。圖案化精確性的原因有兩重。 首先，必須在基底的大區(qū)域上復(fù)制圖案化的特征并同時對它們的尺寸擁有精確控制。其次， 具有這些特征的產(chǎn)品通常是由若干層不相同但又相互作用的圖案化的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。