技術編號：2816655
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于微光刻的具有遮擋光瞳的投射物鏡，該投射物鏡包括具有提供用 于施加有用光的第一區(qū)域的第一光學表面，并且包括具有提供用于施加有用光的第二區(qū)域 的至少一個第二光學表面。在該投射物鏡的操作期間，有用光的束包絡在第一區(qū)域和第二 區(qū)域之間延展。背景技術從文件WO 2006/069725 Al中可知用于微光刻的這樣的投射物鏡。微光刻中，投射物鏡用在投射曝光設備中，投射曝光設備用于生產(chǎn)半導體元件和 其他精細結構化的元件。在該情況中，投射物鏡用于將光掩模和光學...
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