技術(shù)編號(hào):2816036
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實(shí)施例涉及半導(dǎo)體制造且更具體說(shuō)來(lái),涉及圖案化襯底的方法、 一種圖案 化襯底的模板和一種圖案化襯底的系統(tǒng)。 背景技術(shù)隨著納米級(jí)半導(dǎo)體裝置和系統(tǒng)的發(fā)展增加,需要用以制造所述半導(dǎo)體裝置和組件的 新穎方法和材料。雖然半導(dǎo)體裝置的形體尺寸日益減小,但光刻工具的成本卻呈指數(shù)形 式增加。進(jìn)一步減小形體尺寸通常受使用光刻方法可實(shí)現(xiàn)的尺寸下限限制。使用常規(guī)光 刻法難以制造具有約60納米(nm)或60納米以下的特征(本文中稱作"亞光刻"特征) 的半導(dǎo)體裝置。微接觸印刷...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。