技術編號：2815776
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及改善光學系統(tǒng)成像特性的方法。此外，本發(fā)明涉及具有改善 的成像特性的光學系統(tǒng)。背景技術在制作精細圖案部件的半導體光刻中使用了例如投射物鏡形式的光學 系統(tǒng)。在本說明書中，具體地提及了這種類型的投射物鏡。這種類型的光學系統(tǒng)具有多個光學元件，其可以形成為例如具有各種反 射/折射特性的透鏡、鏡子或平行平面板來形成。投射物鏡被用于將掩模(掩模母版)的結構或圖案成像到光敏基底上。 在這種情況中，置于光學系統(tǒng)物面中的結構被照明光源以及與其相關的照明 光學組件來照...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。